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       PVD法可在較低的溫度下制備具有優(yōu)異的性能的薄膜，而且所用的原料為固體，可制備金屬，化合物的薄膜。PVD法有正空蒸鍍，濺射成膜等等方法。玻璃瓶生產(chǎn)廠家把所謂真空蒸鍍?cè)?0-2Pa以下的真空中加熱固體物質(zhì)使之蒸發(fā)并在基板上付著成膜，這是最基本的PVD法。徐州玻璃瓶廠把薄膜的形成的過(guò)程為蒸鍍?cè)显谡舭l(fā)源被加熱，蒸鍍?cè)系姆肿踊蛟酉驒C(jī)板處飛行，分子或原子附著于潔凈基板上并形成薄膜。
     由于蒸發(fā)物不同在蒸發(fā)源處的溫度及真空度有所不同，玻璃瓶廠一般以物質(zhì)蒸汽壓為1Pa時(shí)加熱的溫度為參考點(diǎn)而真空度選擇10-3Pa以下。分子或原子在到達(dá)基板前的飛行中最好不與殘留的氣體分子發(fā)生碰撞，從而可以保持蒸鍍前其所具有的能量。玻璃瓶生產(chǎn)廠家在溫度T時(shí)做熱運(yùn)動(dòng)的分子與其它分子不發(fā)生碰撞前進(jìn)的距離為平均自由程，一般使蒸鍍的分子或原子與殘留氣體分子不發(fā)生碰撞的真空度應(yīng)在10-2Pa以下。實(shí)際蒸鍍中除了蒸發(fā)的原子或分子入射并附著與基板上，這種氣體分子入射附著基板上的頻率，玻璃瓶廠由此要制備不含或含量甚微殘留氣體為雜質(zhì)的薄膜，蒸鍍的真空應(yīng)低一些好，實(shí)用的應(yīng)在10-3Pa一以下。我們要求純度高的薄膜應(yīng)在10-7Pa以下，其中為蒸鍍發(fā)源，與蒸發(fā)面積S相比，其開(kāi)口面積S非常小，由此損失的分子若可以忽略的話，可以認(rèn)為爐內(nèi)的蒸汽壓平衡。此時(shí)玻璃瓶生產(chǎn)廠家由開(kāi)口處噴出的分子數(shù)僅受爐內(nèi)溫度影響，這一溫度高低即可控制分子向外飛散的強(qiáng)度。